FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR - що ідеально підходить для портретної зйомки, є захищеною від негоди версією знаменитого об'єктива з фокусною відстанню 85 мм. Відомий своєю надзвичайно швидкою максимальною діафрагмою f/1,2, відмінною ізоляцією об'єкта і приємним перенесенням кольорів, ця версія також оновлює оптичну формулу, додаючи асферичні елементи в фокусувальну групу, значно збільшуючи відстань фокусування до 50 см і 11-дюймовий об'єктив. 11 пелюсткова округлена апертурна діафрагма для покращення боке.

В оптичній схемі використовуються як асферичні елементи, так і елементи з наднизькою дисперсією, які допомагають зменшити різні аберації, колірну окантовку та спотворення для досягнення високої різкості та чіткості. Покриття Super EBC також використовується для зменшення відблисків та ореолів для підвищення контрастності та точності кольору при яскравому освітленні та контровому світлі. 

Закруглена діафрагма з одинадцяти пелюсток забезпечує плавні та приємні відблиски поза фокусом. У цьому суцільнометалевому об'єктиві використовуються дев'ять гумових ущільнень, які захищають його від пилу та вологи, а також зберігають повну функціональність при температурах до -10°С. 

Тим часом, передній елемент із фтористим покриттям призначений для захисту від води, відбитків пальців та інших слідів, щоб підтримувати високу якість зображення, коли погода обертається проти вас.

• Об'єктив із фіксованою портретною відстанню призначений для бездзеркальних камер Fujifilm формату APS-C з байонетом X та забезпечує фокусну відстань, еквівалентну 85 мм.
• Забезпечує високу роздільну здатність, відсутність аберацій, деталізацію та перенесення кольорів. Об'єктив XF 56mm f/1.2 R WR ідеально підходить для зйомки портретів, весіль та інших творчих завдань, що вимагають точного керування глибиною різкості. Він забезпечує неймовірну роздільну здатність зображення навіть при мінімальній відстані фокусування 50 см, що робить його ідеальним портретником. Він також підходить для настільної, товарної та комерційної фотографії.
• Його оптична схема складається з 13 елементів у восьми групах, включаючи один ED і два асферичні елементи. Вісім елементів, що використовуються у фокусуючій групі, використовують високозаломну технологію кінооб'єктивів FUJINON для мінімізації хроматичних, сферичних та коматичних аберацій. Це допомагає звести до мінімуму відблиски у світлих ділянках, підвищуючи при цьому якість зображення та деталізацію об'єкта.
• Особливо яскрава максимальна діафрагма f/1,2 чудова в умовах низького освітлення та забезпечує помітний контроль над глибиною різкості для використання методів вибіркового фокусування.
• Покриття Super EBC було нанесено на окремі елементи, щоб зменшити відблиски та ореоли лінз, покращити контрастність та точність кольору при роботі в умовах сильного освітлення.
• Закруглена діафрагма з одинадцяти пелюсток забезпечує приємну якість зображення поза фокусом, що дозволяє використовувати методи вибіркового фокусування та малої глибини різкості.